Double Patterning 原理
2018年5月29日—另一种是自对准双重成像技术(self-aligneddoublepatterning),SADP的原理是一次光刻后,再在第一次光刻图形周围通过淀积侧墙,通过刻蚀实现对空间图形 ...,2022年1月11日—半導體多重圖形曝光技術的原理Multiplepatterning...EUV極紫外光的波長13.5奈...
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